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制造半導體器件或集成電路用化學氣相沉積裝置(化學氣相沉積裝置(CVD))  8486202100

申報實例匯總

商品編碼 商品名稱
8486202100 預鍍膜機(舊)
8486202100 鍍膜機
8486202100 鎢膜化學氣相沉積設備
8486202100 金屬有機物化學氣相淀積設備
8486202100 金屬有機物化學氣相沉積設備
8486202100 金屬有機物化學氣相沉積系統(tǒng)
8486202100 金屬有機物化學氣相沉積臺
8486202100 金屬有機物化學氣相沉淀爐
8486202100 金屬有機源氣相沉積設備
8486202100 金屬有機化合物氣相淀積法設備/成套散件
8486202100 金屬有機化合物氣相淀積法設備
8486202100 酸化膜成長裝置
8486202100 連續(xù)式電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
8486202100 背封爐（舊）
8486202100 等離子沉積設備(舊)
8486202100 等離子增強型化學氣相沉積臺（舊）
8486202100 等離子增強化學氣象沉積系統(tǒng)（見清單）
8486202100 等離子增強化學氣相沉積裝置
8486202100 等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)
8486202100 等離子增強化學氣相沉積硅鍍膜系統(tǒng)主機
8486202100 等離子增強化學氣相沉積硅鍍膜系統(tǒng)
8486202100 等離子化學氣相沉積裝置
8486202100 等離子加強型化學氣體淀積裝置
8486202100 等離子體增強化學氣相沉積裝置
8486202100 等離子體CVD納米材料生長系統(tǒng)
8486202100 立式擴散爐(舊)01年產(chǎn),已用17年,還可用8年
8486202100 磁性薄膜聯(lián)合生長系統(tǒng)
8486202100 電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)
8486202100 電漿輔助化學氣相沉積儀(舊)
8486202100 電漿輔助化學氣相沉積(舊)
8486202100 水平化學氣相沉積裝置(舊）
8486202100 氣體混合柜成套散件/RESI
8486202100 材料沉積系統(tǒng)(實驗室用)
8486202100 有機金屬化學氣相沉積爐
8486202100 舊鎢化學氣相沉積裝置
8486202100 舊化學氣相沉積裝置,原價JPY4000000/臺
8486202100 舊低壓化學氣相沉積裝置,原價JPY4000000/臺
8486202100 微波輔助化學氣相沉積系統(tǒng)
8486202100 射頻等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)97#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)94#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)92#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)86#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)83#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)82#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)77#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)76#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4033#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4032#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4030#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4028#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4027#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4026#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4024#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4023#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4022#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4021#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4020#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4019#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4018#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4016#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4015#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4014#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4013#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4012#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4011#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4010#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4007#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4005#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4003#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4002#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)4001#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)361#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)357#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)355#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)354#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)352#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)350#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)347#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)345#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)343#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)342#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)341#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)340#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)339#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)338#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)337#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)336#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)335#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)334#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)332#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)331#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)330#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)329#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)328#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)327#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)326#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)325#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)324#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)322#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)321#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)319#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)317#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)316#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)315#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)314#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)313#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)312#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)311#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)310#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)309#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)305#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)303#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)120#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)118#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)116#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)115#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)114#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)113#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)109#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)108#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)107#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)105#
8486202100 射頻發(fā)生器(CVD裝置用)104#
8486202100 太陽能電池鍍膜裝置(舊)
8486202100 太陽能減反射膜制造設備
8486202100 外延爐
8486202100 垂直化學氣相沉積裝置(舊)
8486202100 團簇式多腔體等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)
8486202100 原子層沉積系統(tǒng)
8486202100 卷對卷化學氣相沉積裝置R2R CHEMICAL VAPOR
8486202100 臥式低壓化學氣相沉積爐管系統(tǒng);制造器件沉積薄膜;低壓化學氣相沉積;SVCS
8486202100 化學氣象沉積裝置
8486202100 化學氣相淀積設備（舊）
8486202100 化學氣相淀積設備(舊)98年產(chǎn),已用20年,還可用6年
8486202100 化學氣相淀積設備(舊)00年產(chǎn)，已使用18年，還可用7年
8486202100 化學氣相淀積設備(舊)00年產(chǎn),已用18年,還可用7年
8486202100 化學氣相沉積設備（舊）
8486202100 化學氣相沉積設備/WJ牌
8486202100 化學氣相沉積設備/NOVELLUS/在
8486202100 化學氣相沉積設備(舊)
8486202100 化學氣相沉積設備
8486202100 化學氣相沉積裝置（舊）
8486202100 化學氣相沉積裝置
8486202100 化學氣相沉積系統(tǒng)(舊)
8486202100 化學氣相沉積爐(舊)
8486202100 化學氣相沉積爐
8486202100 化學氣相沉淀機（舊）
8486202100 制造半導體器件或集成電路用化學氣相沉積裝置
8486202100 減反射膜制造設備(新格拉斯牌)
8486202100 減反射膜制造設備
8486202100 低壓化學氣相沉積裝置(舊)01年產(chǎn),已用17年,還可用8年
8486202100 低壓化學氣相沉積氧化鋅鍍膜系統(tǒng)
8486202100 TCO化學氣相沉積系統(tǒng)
8486202100 PECVD設備(舊)
8486202100 PECVD硅片鍍膜機(舊)
8486202100 PECVD沉積設備(等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng))
8486202100 PECVD化學氣相沉積設備
8486202100 PECVD減反射膜制造設備
8486202100 PECVD 減反射膜制造設備
8486202100 IC淀積爐
8486202100 CVD
8486202100 C-1淀積爐
8486202100 (舊)常壓化學氣相沉積設備